Оптик 200 лазерная установка

Лазерная установка OPTIC 200

Лазерная установка OPTIC 200

Описание:
Настольная лазерная установка OPTIC 200 предназначена для сварки всех ювелирных металлов и сплавов, включая материалы с высокими отражающими свойствами и теплопроводностью.
Принцип работы лазерной установки (квантового усилителя света): сфокусированный лазерный луч расплавляет свариваемый металл в точке его контакта с металлом.
Рекомендуется к использованию в мастерских и на небольших производствах при изготовлении и ремонте изделий из металла: ювелирные украшения, часовые браслеты, медицинские изделия, титановые оправы и т.д. (не допускается сварка неметаллических материалов, особенно пластмасс).
Позволяет повысить производительность труда, улучшить качество производимых изделий, уменьшить процент брака (заваривание пор).

Технические характеристики:
Тип лазера, Nd: YAG (алюмоиттриевый гранат с неодимом).
Класс лазерной защиты — 4.
Длина волны — 1064 нм.
Энергия импульса 0,1 – 100 Дж.
Продолжительность импульса — 0,1-5 мс.
Частота повторения импульсов — 1-8 Гц.
Диаметр лазерного пятна — 0,1 — 3,0 мм.
Максимальная средняя мощность — 200 Вт.
Пиковая мощность в импульсе — 6 кВт.
Ресурс лампы — 3 000 000 импульсов (“выстрелов”).
Управление: Сенсорный дисплей, механический джойстик, педаль.
Рабочие языки (меню управления) — 7 языков (в т.ч. русский, английский, китайский).
Программная память — 50 наборов параметров.
Оптическая система — Стереомикроскоп 10х, фокусное расстояние 100-160 мм.
Рабочая камера со светодиодной подсветкой (регулируемой).
Система охлаждения — встроенная воздушно-водяная, объем резервуара — 3 л.
Обдув свариваемой детали — Аргон (защитный газ) или сжатый воздух (охлаждение).
Максимальное давление защитного газа (аргона) — 1,5 бар.
Максимальное давление сжатого воздуха — 3 бар.
Электропитание — 220 В/50-60 Гц.
Потребляемая мощность — 3 кВт, предохранитель 15А.
Габаритные размеры ДхШхВ — 1030х620х820 мм.
Вес нетто — 100 кг.
Вес брутто — 120 кг.

Источник

Установки безмасковой лазерной литографии VPG+ 200/ VPG+ 400

Обновленные установки безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели VPG+ 200 / VPG+ 400 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
VPG+ — High Speed Pattern Generators.
Теперь установки VPG+ стали в почти 3 раза быстрее чем предудущая сери установок VPG.

Высокопроизводительные лазерные устновки лазерной литографи (генераторы изображения) VPG+ 200 и VPG+ 400 предназначены для задач производств крупных серий для ормирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Для обеспечения высокоточного перемещения подложки генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки. Во время экспонирования положение координатного столика контролируется с помощью интерферометрической системы высокого разрешения. Оптическая ситема смонтирована на тяжелом гранитном основании.

Камера микроклимата замкнутого цыкла, с помощью которой подверживется стабильная температура в камере литографа для достижения наилучшх результатов, точности и стабильности параметров.

Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью акусто-оптического модулятора.

Система оснащена высокомощным импульсным UV диодным лазером (High power pulsed UV laser source), работающим на длине волны 355 нм.

Генератор может быть снабжён автоматической системой загрузки пластин (из кассеты в кассету), возможна загрузка пластин диаметром 200 мм или размером 178 х 178 мм и большего зармера по запросу.

Установку можно оснастить сменными пишущими линзами с минимальным размером элемента 0,75 мкм, 1,0 мкм и 2,0 мкм и 4,0 мкм соответствено (по выбору). Пишущие головки сменные и могут меняться оператором при смене процесса.

Опции: оптический автофокус (дополнительно к пневматческой системе автофокусировки), автоматическая загрузочная станция из кассеты, расширение гарантии.

Особенности

Сменные пишущие линзы (головы) на 0,75 мкм, 1,0 мкм, 2,0 мкм, 4,0 мкм.

Источники излучения: высокомщный импульсный UV лазерый источник — 355 нм.

Размер обрабатываемых подложек и пластин до 9 х 9 и 17 х 17 дюймов

Скачать брошюру VPG+ 200/ VPG+ 400
Скачать брошюру VPG+ 800/ VPG+ 1100 / VPG+ 1400 в PDF

Характеристики для VPG+200 и VPG+400

Точность совмещения (3σ), нм ( Overlay accuracy (3σ), nm)

Сшивка (3σ), нм

Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA150 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

Новое поколение систем прямого экспонирования — установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность. Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности в производстве, а также задачи исследования, НИОКР.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм (WM I) или 1 мкм (WM II).
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов.
Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм (до 200 х 200 опционально)
Точность совмещения (100×100 мм² [3sigma, нм]) — 500 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² — 9 минут (мин. топология 1 мкм).
Обратное совмещение (BSA) — опция.
Серая шкала — опция
Оптический автофокус — опция
Режим с высоким аспектным отношением — опция
Автоматическое совмещения по реперам на каждом из чипов — опция
Возможность установки двух источников — 405 нм и 375 нм.

Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA150 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

Новое поколение систем прямого экспонирования — установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность. Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности в производстве, а также задачи исследования, НИОКР.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм (WM I) или 1 мкм (WM II).
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов.
Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм (до 200 х 200 опционально)
Точность совмещения (100×100 мм² [3sigma, нм]) — 500 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² — 9 минут (мин. топология 1 мкм).
Обратное совмещение (BSA) — опция.
Серая шкала — опция
Оптический автофокус — опция
Режим с высоким аспектным отношением — опция
Автоматическое совмещения по реперам на каждом из чипов — опция
Возможность установки двух источников — 405 нм и 375 нм.

Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования модели µMLA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

µMLA предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности — лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка μMLA представляет собой новое поколение настольных установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения, модуль векторного экспонирования или оба модуля одновременно в одной машине.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер до 0,6 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 5 х 5 дюймов
Минимальный размер пластин: 5 х 5 мм
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения (50×50 мм² [3σ, нм]) — 1000 нм.
Точность совмещения (5×5 мм² [3σ, нм]) — 500 нм.
Скорость экспонирования до 300 мм 2 /мин.

Растровое (бинарное) экспонирование, вектороное экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).

Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования модели µMLA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

µMLA предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности — лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Установка μMLA представляет собой новое поколение настольных установок лазерной безмасковой литографии: позволяет точно подбирать режим экспонирования исходя из ваших задач, включает модуль растрового экспонирования с возможностью выбора пищущей линзы и разрешения, модуль векторного экспонирования или оба модуля одновременно в одной машине.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер до 0,6 мкм.
Максимальный размер шаблонов или пластин до 5 х 5 дюймов
Минимальный размер пластин: 5 х 5 мм
Область экспонирования до 150 х 150 мм
Точность совмещения (50×50 мм² [3σ, нм]) — 1000 нм.
Точность совмещения (5×5 мм² [3σ, нм]) — 500 нм.
Скорость экспонирования до 300 мм 2 /мин.

Растровое (бинарное) экспонирование, вектороное экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).

Настольная модель mPG 101 лазерной безмасковой литографии производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

Установка предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности — лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,6 мкм, 1,0 мкм, 2,5 мкм, 5,0 мкм.
Скорость письма от 1 до 90 мм 2 /мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм.

Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale ExposureMode).

Настольная модель mPG 101 лазерной безмасковой литографии производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

Установка предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности — лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,6 мкм, 1,0 мкм, 2,5 мкм, 5,0 мкм.
Скорость письма от 1 до 90 мм 2 /мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм.

Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale ExposureMode).

Источник